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供应扩散炉生产厂家|氧化炉退火炉光亮设备

发布时间:07月11日

详细说明

扩散炉
扩散炉主要是完成半导体元器件的扩散,可作元器件的烧结、退火、等工艺,具有应用范围广、安全可靠、控制精度高等特点。
2.设备名称       双管扩撒炉
3.型号           L4611II-Z/RZQ
4.规格           石英玻璃(单)管有效直径Φ150×2400mm,
                 管壁厚度5-6 mm。
5.主要配制:
5.1主机部分
5.2温度控制部分(PID)
5.3气路部分
5.4氧化室
5.5功率部分
5.6移动工作台
6.主要技术指标
6.1*高温度                         1280℃
6.2使用温度                         300℃~1200℃  
6.3恒温区长度                       大于等于600mm
6.4单点控温精度                     ±0.5℃/24h
6.5升温功率                         20kw
6.6保温功率                         10kw
6.7氮气流量   大                                 0~20L/min(可调)
             小(通过洗气瓶,容量500~1000ml)  0~1L/min

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