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供应扩散炉生产厂家|氧化炉退火炉光亮设备
发布时间:07月11日
详细说明
扩散炉
扩散炉主要是完成半导体元器件的扩散,可作元器件的烧结、退火、等工艺,具有应用范围广、安全可靠、控制精度高等特点。
2.设备名称 双管扩撒炉
3.型号 L4611II-Z/RZQ
4.规格 石英玻璃(单)管有效直径Φ150×2400mm,
管壁厚度5-6 mm。
5.主要配制:
5.1主机部分
5.2温度控制部分(PID)
5.3气路部分
5.4氧化室
5.5功率部分
5.6移动工作台
6.主要技术指标
6.1*高温度 1280℃
6.2使用温度 300℃~1200℃
6.3恒温区长度 大于等于600mm
6.4单点控温精度 ±0.5℃/24h
6.5升温功率 20kw
6.6保温功率 10kw
6.7氮气流量 大 0~20L/min(可调)
小(通过洗气瓶,容量500~1000ml) 0~1L/min
青岛奥博设备有限公司
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