公司名称：深圳东信高科自动化设备有限公司
供应单晶硅、多晶硅、硅片表面活化等离子清洗机 发布时间：10月25日
详细说明
用途：
  用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜，也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。
  用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜，也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。
深圳东信高科自动化设备有限公司
联系人：王照洋 先生 (销售工程师)
电 话：0755-33878728
传 真：0755-33878727
手 机：13537770075
地 址：中国广东深圳市宝安区沙井共和恒明珠科技园12栋1楼
邮 编：518106
网 址：http://szdxcs.qy6.com.cn(
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