公司名称：青岛微弘设备技术有限公司

氧化/扩散炉
扩散炉应用于半导体分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，可用于2-8英寸工艺尺寸。
产品特点：
可保存多条工艺曲线每条曲线可设置多步
工艺曲线的自动运行控制功能
工艺中可强制跳到下一工艺步运行功能
自动运行中可暂停／继续运行功能
可存储多组PID参数供系统运行调用功能
PID参数自整定功能
工艺气体的程序控制功能
关键部件全部具有高可靠性
具有良好的人机界面
系统故障自诊功能
停电后断点继续运行功能等等
具有历史记录功能，可打印
具有多点温度补偿
该系统可根据用户的特殊要求增减开发相应的功能
技术指标

可配置工艺管外径2～8英寸
可配置工艺管数量：1～4管/台
工作温度范围：400～1300℃
恒温区长度：300～1250mm
恒温区精度：800～1300℃±0.5℃
单点温度稳定性：800～1300℃±0.5℃/24h
*大可控升温速率：15℃/min
*大降温速率：5℃/min