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【供应】揭膜机

发布时间:02月19日

详细说明

手动揭膜机特点:

适用于半导体晶圆减薄制程中的揭膜工艺
规格:6inch/8inch (型号:HW-WM206/208-DT)
■ 此外我们也能根据客户需求,提供非标产品。


1.可同时兼容4inch,5inch,6inchwafer或6inch,8inchwafer的揭膜

2.微孔工作盘设计使揭膜时wafer固定的更牢

3.台面表面铁氟龙处理

4.适合于不同厚度的晶片

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