公司名称：江门市惠和永晟纳米科技有限公司

硅溶胶在抛光中的应用
1.纳米二氧化硅抛光液是以硅溶胶为主要原料，经过特殊工艺生产的一种抛光产品，广泛用于多种材料表面的平坦化抛光，如电子产品的金属外壳、手机摄像头玻璃、 Home键、计算机硬盘盘片、硅晶片等表面的抛光加工。

2.纳米二氧化硅抛光液的抛光过程是在抛光机上实现的，在抛光过程中抛光垫和工件相对做旋转运动，抛光液(磨料)在旋转的抛光垫与工件之间流动，在一定压力、温度和转速作用下，发生化学机械抛光过程-简称CMP(Chemical Mechanical Polishing)，因此抛光过程是在化学的和机械的综合作用下，使工件表面平整化(抛光)。

3.在抛光过程中，抛光液的主要作用是:

①抛光作用，通过研磨、腐蚀、吸附反应物来实现;

②润滑作用;

③冷却降温作用;

④冲洗排渣作用。