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发布时间:04月21日

详细说明

线路蚀刻:
本流程使用(显影)蚀刻去膜机直接完成显影、蚀刻、去膜三大步骤。 显影是将已经暴过光的带干膜的板材,经过显影液(7.9g/L的碳酸钠溶液)的处理,将未受UV光照射的干膜洗去而保留受到UV光照射发生聚合反应的干膜使线路基本成型。 蚀刻是在一定的温度条件下(45+5℃)蚀刻药液经过喷头均匀喷淋到铜箔的表面,与没有蚀刻阻剂保护的铜发生氧化还原反应,而将不需要的铜反应掉,露出基材再经过剥膜处理后使线路成形。 去膜是指蚀刻完成后的线路上仍然留有硬化的干膜,在此流程使用特定药水冲洗基板,利用药水的特性清除附着在线路上的干膜,露出完整的铜层线路。 1、蚀刻前需要注意检查:1>、干膜上是否出现不平整现象,如褶皱、气 泡等。 2>、显像后裸铜面以刀片轻刮不可有干膜残留。 3>、线路边缘,不可呈锯齿状或线路明显变细, 翘起之现象。 2、常见不良及预防:残铜,断线,变色,尺寸涨缩,板翘。 1>、残铜:主要是使用的蚀刻的药水不当产生,可改用药水。

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