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离子注入机SOPHI-400

发布时间:2021年09月22日

详细说明

离子注入装置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量离子注入装置。
特长
·单叶式

·支持稀薄Wafer

·平行光束

用途
·功率器件等薄型基板工艺、IGBT工艺

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