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刻线衍射光栅,MIR反射式

发布时间:2023年05月30日

详细说明

“刻线衍射光栅,MIR反射式”参数说明
型号: Qx-mir-gl 规格: 12.5 mm X 25.0 mm X
商标: 一博 包装: 硬塑
设计波长: 3.1 刻线数: 800
“刻线衍射光栅,MIR反射式”详细介绍
刻线衍射光栅,MIR反射式基本介绍
QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅,适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异,
刻线衍射光栅,MIR反射式性能特点
特性
· 设计波长:3.1 μm、3.5 μm、10.6 μm

· 设计波长处的偏振效率:80%到95%

· 低重影:小于主反射的0.5%

· 反射铝膜

· Pyrex基底,75到450刻线/mm

· 使用刻线的基底材料生产

· 损伤阈值:

o 连续波激光:250 W/cm2

o 脉冲激光器:3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)

刻线衍射光栅,MIR反射式技术参数
反射式衍射光栅,设计波长3.1 μm
Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.1 μm

450

32°

1.6 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

反射式衍射光栅,设计波长3.5 μm
Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.5 μm

300

26.5°

2.86 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

反射式衍射光栅,设计波长10.6 μm
Dimensions (W x H x D)

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

10.6 μm

75

21°

12.3 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

100

27°

8.5 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

150

35°

4.2 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

刻线衍射光栅,MIR反射式使用说明
注意
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取,而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套,以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅,其它任何操作都是不允许的。溶剂很可

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