光敏机 光敏料 光敏机制作光敏章过程
发布时间:2017年11月29日
详细说明
印章制作流程
本机为双管光敏机 制作时一次成功曝光称成品。外形尺寸400*310*105毫米。重量 10千克。工作电源AC220V+5%HZ fenbianlv 分辨率 0.0256毫米 曝光范围 120*80毫米
(1)用激光打印机将制作好的样稿打印在硫酸纸上。
(2) 按样稿规格覆盖上透明曝光膜,其大小以完全覆盖样稿为准。
(3)打开内光敏机置曝光盒,依次放入光敏印章垫(曝光新力章壳,则取下章壳手柄和章盖,将曝光盒下方的透明有机板取出,将章垫按方向放进曝光盒),曝光膜,打印样稿。打印样稿、曝光膜、光敏印章垫三者之间的顺序及朝向为:*下层为光敏印章垫,中间层为曝光膜,打印样稿在*上层,打印面朝下。三者依次平稳紧密接触,中间严禁有间隙式褶皱。将光敏机曝光盒板压紧,放入光敏印章机内。
(4)接通电源,并打开电源开关,光敏机开始充电。
(5) 光敏印章垫种类繁多,不同印章垫需要不同的曝光能量。为了对所有光敏印章垫都能精确曝光,本机采用可根据电压表显示自由随机曝光的曝光方式。曝光电压范围从160V至320V之间,均可曝光。(初次使用时,建议用户先用边角料测试出适合该章垫的*佳曝光电压值。如对于某些国产光敏垫的曝光电压值:硫酸纸打印稿250V+5%,胶片打印稿230V+5%)。待光敏机充电指示达到该章垫所需曝光电压时,关闭电源,按下触发按扭,完成曝光。
(6)松开压紧手柄,掀开避光板,将曝光完的光敏垫取出,揭掉胶片。
(7) 将曝光好的印垫放入相应的章壳内,按印章规格注
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