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吉致JEEZ钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液

发布时间:2023年09月11日

详细说明

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液

钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

我司产品优点:

1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。

2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。

3.运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。

4.分散性好、乳液均一,程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度。

5.无粉尘产生,关注环保和人体健康安全。

可定制化:我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。

包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)

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